8月21日，有研資環(huán)院第二期學(xué)術(shù)“咖”邀請日本SOLTEC公司山川哲雄社長和青木智則教授作講座交流。會議由公司副總經(jīng)理袁學(xué)韜主持，各部門技術(shù)骨干、研究生等20余人參與交流討論。

會上，青木智則教授作題為“關(guān)于蒸發(fā)鍍膜中的應(yīng)力——以TiO2薄膜等為例”講座，主要從薄膜材料中存在的應(yīng)力問題，應(yīng)力的定義、分類、測量方法及測量裝置等方面詳細闡述了關(guān)于材料制備過程中的應(yīng)力問題，舉例講解了用不同材料在鍍膜工藝的成膜、冷卻、排氣等過程中各項性能的變化，最后指出起始材料對于應(yīng)力狀態(tài)的影響最為顯著，建議應(yīng)在膜設(shè)計中重點考量。

在交流環(huán)節(jié)，與會人員與山川哲雄社長、青木智則教授進行了深入探討。山川哲雄社長鼓勵青年骨干和研究生不斷學(xué)習(xí)進步，提升自己的科研能力。青木智則教授分享自己的科研實踐經(jīng)驗，針對材料方面相關(guān)提問進行深入淺出的講解。

袁學(xué)韜代表公司為青木智則教授頒發(fā)了外部專家聘書。此次活動拓寬了科研團隊成員和師生的學(xué)術(shù)視野，啟迪了科研思路，對今后的科研工作有重要的啟發(fā)和借鑒意義。